新舊 CMP 研磨機的現代化零件解決方案
如果您需要 CMP 替換零件或其他 CMP 設備，我們都能滿足您的需求。Entrepix 可讓您維持並改進現有的硬體。
我們製造的每個零件都是最高品質，設計符合或超越 OEM 標準。
我們可以開發全新的產品，例如我們獨創的晶圓載具或清洗模組，但我們也為您現有的設備需求提供簡單的零件解決方案。解決利基替換零件應用、舊組件的逆向工程，以及將舊技術改良為新用途，都是我們的專長。
需要微調您的化學機械拋光或清洗製程？需要為您的新應用、當前應用或傳統應用提供零件支援？ 試圖控制淘汰問題？我們的工程團隊可以根據您（或 OEM）的規格設計零件，更改套件中的內容，並提供支援，讓您獲得所需的結果。
此外，我們的 3D 印表機和內部加工與製造能力可讓您快速製作原型，加快產品上市時間並提昇效率。
您的 CMP 備件來源
Entrepix 擁有大量清洗和 CMP 平台的備件庫存，例如 OnTrak、AMAT Mirra、IPEC 和 SpeedFam，以及 Rudolph 度量設備和其他技術。我們也備有過時零件，讓您的傳統系統繼續運作。
適用於新功能和 CMP 設備升級的工程零件
找不到您要的替換零件？Entrepix 可以製造。
您是否在想像一個不存在的具有新功能的零件？Entrepix 可以做到。
我們的工程師團隊可以創造客製化解決方案，為您的 CMP 平台注入新生命。 您的 CMP 平台。
CMP 設備淘汰的成熟解決方案
我們為客戶和我們自己開發行之有效的設備和零件淘汰解決方案。我們不只是複製，而是創新。藉由詢問如何改善，我們挑戰自己去設計和優化。
Entrepix 持續支援 OEM 所不支援的設備，我們甚至支援 OEM 已不存在的設備，例如 IPEC 472。
以 Windows PC 取代過時的 OEM GESPAC
Entrepix 更換了舊式 OnTrak 中過時的 OEM GESPAC 電腦系統，並以 Windows 7 Embedded 工業電腦取代整個系統。
升級包括
固態硬碟機
透過 HSMS 進行完整的 SECS/GEM
依晶圓、批次 ID、模組或使用者 ID 進行完整的資料擷取與記錄
使用者可依晶圓數量或時間定義警報設定點
改良的晶圓回收和示教螢幕
按使用者增強安全功能
支援先進的運動控制器、分散式 I/O、工廠自動化感測器監控
這讓整套設備邁向現代化，同時保持高度的向後相容性，因為客戶現在可以將 OnTrak 連接到他們的設施中，並在未來數年繼續運行和升級系統。
過時的控制系統
升級後的控制系統
管理您的 CMP 清潔器過時問題
需要過時的零件？我們可以為您製造。請告訴我們您的需求，我們會盡快回覆。