您的 CMP 鑄造廠:委託製造與研發

Entrepix 代工廠可處理您的溢流生產,提供製程工程解決方案,並在銷售和安裝前展示設備性能。

Entrepix 的晶圓代工廠為客戶提供各種晶圓生產服務和研發。我們是您團隊的延伸,協助裝置製造、量產、研究新製程,以及示範和驗證新材料、設備和耗材。

CMP 的工程與技術開發

Entrepix 擁有知識淵博的工程師和技術專家團隊,可在 CMP、清洗和分散式製程流程中協助客戶。我們的工作範圍涵蓋所有晶圓直徑,從coupons到200mm,幫助我們的客戶:

  • 快速進步的技術

  • 降低研究成本

  • 整合新材料

  • 開發流程改進

  • 網版耗材

  • 評估成本與生產力

  • 實現設計和加工方法的靈活性

批量生產

我們可以根據您的需求和規格來協助製造和生產晶圓,以達到完全外包和作為溢出產能的目的。身為前十大 IDM,我們已加工超過一百萬片晶圓,並通過 ISO 9001:2015 認證。

我們提供保證的週期時間,並使用 FMEA、SPC、內部稽核和 CAR 等品質系統。

內部加工工具集

在 Entrepix,我們使用下列處理工具來滿足您的成功標準:

處理工具平台
CMPAMAT Mirra:150-200mm 晶圓加工
IPEC 472(2):優惠券-200毫米
CMP 後清潔OnTrak DSS-200 Synergy:100-200 公釐
OnTrak DSS-200 Series 2: 100-200mm
SRD: 75-200mm

內部計量設備

在 Entrepix,我們使用下列計量工具來確保均一性:

計量工具平台
介質薄膜厚度Thermawave Optiprobe 2600DUV
Mikropack 紫外/可見/近紅外線反射儀
導電薄膜厚度CDE ResMap 168 4 點測頭
基板厚度FSM 413-300
表面輪廓儀Dektak D8 (具有超低力和 3D 繪圖功能)
Tencor P2
精密分析天平Mettler-Toledo, A and D, Sartorius
缺陷檢查KLA-Tencor SP1 TBI (200mm)
AMAT Orbot WF-736DUO
缺陷審查Leica 光學檢視 (內建於 AMAT 平台)
光學顯微鏡Nikon Optiphot
Zeiss Ergoplan (搭配 Nomarski DIC)
Leica 立體相機
雜項各種分析和表徵設備
也可提供 (第三方)SEM、AFM、TXRF 及其他技術(額外費用)

我們打磨的材料

CMOS


  • 氧化物

  • 屏障金屬 (Ta、Co、Ru)

  • 淺溝

  • 多晶矽

  • 低 k 介電體

  • 上限超低 K

  • 金屬閘門

  • 閘極電阻

  • 高 k 介電體

  • Ir 和 Pt 電極

  • 耐火金屬

  • 鋁合金

底物/Epi


  • 矽和 SOI

  • GaAs 和 AIGaAs

  • InP 和 InGaP

  • Poly-AIN 和 GaN

  • 碲化镉和 HGCdTe

  • Ge 和 SiGe

  • 铌酸锂

  • 石英、玻璃和矽石

  • 藍寶石

  • 鑽石和 DLC

  • SiC

新應用


  • 微機電

  • 矽導通孔 (TSV)

  • 直接晶圓接合

  • 3D 包裝

  • 超薄晶圓

  • 聚合物和阻劑

  • CNT 與奈米元件

  • NiFe 和 NiFeCo

  • 鋁和不銹鋼

  • 偵測器陣列

  • 磁性

  • 光電與太陽能

  • LED 和光學

  • 電源裝置

  • 類比與 RF

  • FINFET 結構

 認證

 

取得研究與製造方面的協助

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